主要特點:
高選擇比蝕刻:通過對磷酸中硅濃度的檢測和控制,可以實現(xiàn)高選擇比的蝕刻,滿足特定的工藝要求
溫度控制:設(shè)備能夠?qū)γ總€區(qū)域的溫度進(jìn)行精確控制,以確保晶圓表面蝕刻的均一性。
高潔凈度清洗:采用先進(jìn)的物理清洗工具,能夠達(dá)到高潔凈度的清洗效果,去除表面的微小顆粒和雜質(zhì)。
環(huán)保節(jié)能:磷酸可以采用可回收方式,降低藥液的使用成本,同時也符合環(huán)保要求。
重要參數(shù)
設(shè)備型號與尺寸:
不同廠家、不同型號的磷酸清洗機(jī)會有不同的尺寸。例如,CSE-SZ2011-16型高溫磷酸清洗機(jī)整機(jī)尺寸約2800mm(L)×1200mm(w)×1900mm(H)。
清洗方式:
可分為單片式清洗、枚葉式清洗、噴灑式清洗等。單片式清洗具有高潔凈度、高均一性、沒有交叉污染等優(yōu)點;枚葉式清洗則在晶片表面的微粒數(shù)控制等方面有優(yōu)勢。
溫度控制:
能夠?qū)γ總€區(qū)域的溫度進(jìn)行精確控制,以確保晶圓表面蝕刻的均一性。對于不同的工藝需求,可能需要不同的溫度設(shè)置。
藥液供應(yīng)系統(tǒng):
自動供酸系統(tǒng)(CDS)可集中配送刻蝕液,經(jīng)管道至磷酸清洗機(jī)。該系統(tǒng)具有自動化程度高、配比精確、操作簡便等特點。
安全保護(hù)裝置:
設(shè)有EMO急停裝置、強(qiáng)電弱點隔離、設(shè)備三層防漏托盤傾斜漏液報警等安全保護(hù)措施,確保設(shè)備運(yùn)行的安全性。
工作照明與臺面板材質(zhì):
上方防酸型照明,方便操作人員觀察清洗過程;臺面板為優(yōu)質(zhì)10mmPP板(帶有圓形漏液孔,清除臺面殘留液體)。
廢液排放與環(huán)保性能:
具備廢液排放管路,磷酸采用可回收方式,可降低藥液的使用成本,同時也符合環(huán)保要求。
其他附件:
水、氣***左右各兩套,便于操作人員進(jìn)行額外的清洗或處理工作。