設(shè)備用途:設(shè)備可用于粉體、顆粒物料、硅負(fù)極材料氣相沉積碳包覆等工藝的高溫裂變。
設(shè)備主體尺寸:2200mmx1200mmx2000mm(以***終設(shè)計(jì)方案為準(zhǔn))。
回轉(zhuǎn)爐體尺寸:中654mmx1500mm(實(shí)際裝填物料工作區(qū)尺寸)。
設(shè)備設(shè)計(jì)產(chǎn)能:爐內(nèi)***大填充率約為25%;***大批次處理5-50kg。爐體傾角:-4~15度(自動(dòng)可調(diào))/筒體轉(zhuǎn)速:0.25~4轉(zhuǎn)/分(變頻可調(diào))爐內(nèi)氣氛環(huán)境:滿足高純氮?dú)?或者其他惰性氣體)、乙炔、硅烷、甲烷等混合氣體。設(shè)備使用溫度:設(shè)計(jì)***高1100℃,爐內(nèi)恒溫時(shí)間跟據(jù)客戶工藝調(diào),可長(zhǎng)期運(yùn)行于1000℃加熱方式:內(nèi)嵌電阻絲模塊圓周加熱。
加熱溫區(qū)及控溫個(gè)數(shù):3個(gè)。
溫控系統(tǒng):島電觸摸屏+島電模塊(支持所有溫度數(shù)據(jù)采集并導(dǎo)出PC)控溫穩(wěn)定性:士2℃℃/溫控表精度:0.3℃/設(shè)備表面溫升:<60℃。電源:三相,380VAC,50HZ。