清華團(tuán)隊(duì)攻克EUV光刻膠瓶頸，用聚碲氧烷實(shí)現(xiàn)18nm線寬新紀(jì)錄，為下一代EUV光刻膠設(shè)計(jì)奠定框架

來源：DeepTech深科技更新時(shí)間：2025-09-18 15:00:13 [我要投稿]

本月中旬，曾有外媒指出中國若想在芯片技術(shù)上取得更大進(jìn)步，還需在光刻技術(shù)上加倍奮進(jìn)[1]。目前，中國高端光刻膠市場主要依賴日本進(jìn)口，而光刻膠作為光刻技術(shù)中核心且不可替代的關(guān)鍵材料，其性能直接決定了光刻工藝的精度、效率和最終器件的質(zhì)量。就在上述媒體發(fā)文 ...[查看原文]

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清華團(tuán)隊(duì)攻克EUV光刻膠瓶頸，用聚碲氧烷實(shí)現(xiàn)18nm線寬新紀(jì)錄，為下一代EUV光刻膠設(shè)計(jì)奠定框架

清華團(tuán)隊(duì)攻克EUV光刻膠瓶頸，用聚碲氧烷實(shí)現(xiàn)18nm線寬新紀(jì)錄，為下一代EUV光刻膠設(shè)計(jì)奠定框架